我司已成功研发卷绕式磁控溅射真空镀膜机

卷绕式磁控溅射真空镀膜机的工作原理：

磁控溅射真空镀膜机基于电场、磁场和电离气体粒子之间的相互作用，将材料从固体靶（镀膜材料）轰击到基材上。

当真空室被抽到高真空环境后，向真空室注入惰性气体，通常是氩气。在阴极靶材和阳极之间施加高压直流电。电压使氩原子电离，剥离电子后形成由带正电的氩离子和自由电子组成的等离子体。

等离子体中的氩离子在电场作用下加速冲向带负电的靶材。当离子与靶碰撞时，其动量传递给靶材原子，轰击出靶材原子。这些被轰击出的靶材原子在基材表面上凝结，形成均匀、致密且附着力强的薄膜。

磁控溅射的核心特征在于靶材后方磁体产生的磁场。该磁场将电子束缚在靶材表面附近，迫使其沿螺旋路径运动。这种约束增加了电子与离子的碰撞概率，从而提升等离子体密度和电离效率。因此，与传统溅射方法相比，有更多离子轰击靶材，显著提高了溅射速率。

磁控溅射的优点：

高质量薄膜： 由于磁控溅射高沉积率的特点，能制备出高纯度、致密、均匀、附着力优异的薄膜。

材料通用性： 适用于金属、合金、陶瓷等多种材料。