磁控溅射式高真空卷绕镀膜机

☑ 卷对卷磁控溅射镀膜是一种先进的薄膜镀膜技术，可以在柔性基材上连续沉积均匀的镀层，广泛应用于需要大面积柔性基材的行业。

☑该工艺在高真空环境下进行，能最大限度地减少污染并确保高质量的镀膜。高能离子（通常为氩气）在等离子体环境中轰击靶材。磁场进一步增强了电离效率与等离子体密度，从而提高溅射效率。溅射出的靶材原子飞向基材并沉积在上面，基材连续移动实现均匀镀层。配置的光学传感器可以实时监测镀层厚度，进一步确保其均匀性。

☑磁控溅射工艺可在金属、合金、陶瓷等多种基材上镀膜，具有高沉积率、膜层与基体附着力强、膜层高密度、高纯度、均匀的特点。